重點專利技術發展線路和技術空白點的分析

2016-04-01 閱讀:80來源:ipcoo.com快技網

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技術發展路線分析,技術分析

重點技術發展線路分析

重點技術發展線路分析是指在分析樣本中,通過專利引證率分析或技術內容變化研究,在此基礎上繪制專利引證樹、或技術發展時間序列圖等,來研判相關技術領域重點技術發展線路。重點技術發展線路分析包括專利引證樹線路圖分析、技術發展時間序列圖、技術應用領域變化分析。
 
1  專利引證樹線路圖分析
 
專利引證樹線路圖分析是在分析樣本中,首先通過專利引證分析(專利引證或被引證次數、專利引證率等)確定各階段重點專利,然后對重點專利構建專利引證樹,專利引證樹中的重要節點反映了專利技術發展線路。
 
2  技術發展時間序列圖
 
技術發展時間序列圖是在分析樣本中,首先通過專利引證分析(專利引證或被引證次數、專利引證率等)確定各階段重點專利,然后對重點專利構建技術發展時間序列圖(雷達圖、樹行圖等),來反映專利技術發展線路。
 
3  技術應用領域變化分析
 
技術應用領域變化分析是在分析樣本中,按技術的應用領域進行統計和排序,并按時間序列展開技術應用領域的變化,了解技術的發展趨勢。其中,技術的應用領域可以按照行業技術分析或德溫特手工代碼進行,也可以對分析樣本中的數據進行人工標引。
 
技術空白點分析
 
技術空白點分析是指對分析樣本中專利數據進行專利技術功效矩陣分析,即對專利反映的主題技術內容和技術方案的主要技術功能、效果、材料、結構等因素之間的特征進行研究,揭示它們之間的相互關系,尋找技術空白點。
 
這種研究方法的結果常常用功效矩陣圖表形式表示。通常,可以按照材料(Material)、特性(Personality)、動力(Energy)、結構(Structure)、時間(Time)等技術方案的要素對分析樣本數據進行加工、整理和分類,構建功效矩陣表,在實際工作中也可以將因素與因素進行組合,如材料與處理方法,材料與產品等,形成多種矩陣圖表,來研究技術重點或技術空白點。
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